迎AI晶片需求高峰！　ASML預告下一代EUV已準備好量產

▲ASML。（圖／資料照）

記者陳瑩欣／綜合報導

晶片製造設備大廠艾司摩爾（ASML）一位高層告訴《路透社》，下一代晶片製造機已經準備就緒，製造商可以開始將其投入大規模生產，這對晶片產業來說是一大步。

ASML生產全球唯一商用極紫外光微影（EUV）設備，這是晶片製造商的關鍵設備。這款新設備將幫助臺積電（2330）、英特爾（INTEL）等晶片製造商；ASML 的數據顯示，透過消除晶片製造過程中幾個成本高且複雜的步驟，可以生產出更強大、更有效率的晶片。

《路透社》報導稱，ASML技術長Marco Pieters表示，ASML在26日於聖荷西舉行的科技會議上公佈這些數據，這代表着一個重要的里程碑。ASML 花費數年時間開發出昂貴的下一代工具，因爲晶片製造商一直在努力確定何時開始將其用於大規模生產才具有經濟意義。

但鑑於當前一代 EUV 工具在製造複雜 AI 晶片方面已接近技術極限，下一代機器 High-NA EUV 對於 AI 行業至關重要，可以改進 OpenAI 的 ChatGPT 等聊天機器人，並幫助晶片製造商按時交付其 AI 晶片路線圖，以滿足激增的需求。

下一代機器 High-NA EUV 造價約 4 億美元，是原 EUV 機器造價的兩倍。

Pieters指出，儘管這些技術已經成熟，但企業預計仍需要2到3年的時間，進行足夠的測試和研發，才能將設備整合到生產中。Pieters也提到，目前機臺的上線時間約爲80%，計劃在年底前達到90%。